静止型リフロー装置(RDT-250C)

小型ながら高い加熱性能で試作、加熱テスト、評価、生産まで対応可能
ベストセラー機です。
高い温度分布性能
小型高性能

特長

  • ●弊社新開発の上面熱風マトリックス制御により実装基板で⊿t≦5℃を実現。
  • ●鉛フリーはんだ実装に理想的な台形プロファイル加熱が簡単に出来ます。
  • ●コストパフォーマンスに優れていて、低消費電力の装置です。

製品仕様

項目 仕様
型式 RDT-250C
対象基板 250W×330Lmm以下　高さ　保持面上下共15mm以下
装置寸法 830(W)×557(D)×523(H)(mm)
加熱方式 上面：熱風・遠赤外線輻射併用
下面：遠赤外線輻射
冷却方式 外部ガス（窒素または空気）導入による（排気ダンパ連動）
冷却用流量調整弁付き
電源 3相　200V　50/60Hz　18kVA
外部ガス 0.3～0.5MPa　100㍑／min（MAX）
炉内酸素濃度 （窒素使用時） 最低100ppm
基板トレイ ネット式またはキャリア式（いづれか選択）
上面加熱 熱風・遠赤外線ヒータ：7.2kW(約240W×30ブロック)
※ 基準モジュールに対する偏差設定可能 熱風ヒータ ：8kW(2kW×4)
下面加熱 遠赤外線ヒータ ：約2kW（330W×6）
温度精度 常温～80℃：±3℃ 80℃～330℃：±2℃
測定温度 常温～330℃
測定点数 6ポイント
窒素供給機能 流量調整弁：100ℓ／min
制御 RDT-250S
対応OS：WindowsXP/2000
装置重量 約110kg
  • オプション：酸素濃度計
  • オプション：ガス混合器
  • ※ 掲載の仕様は、改良のため予告なしに変更することがありますのであらかじめご了承ください。

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