静止型リフロー装置　RDT-250Ⅱ

小型ながら高い加熱性能で試作、加熱テスト、評価、生産まで対応可能
進化したニューモデル登場です

●リフローはんだ付けのシミュレーション、少量多品種の生産に手軽に 　 使える装置です
●プリント基板を移動させずに全工程を処理するので、プロファイル測定と 　 目視観察を同時に行うことができます
●プロファイル条件作成が簡単になりました。
●ヒーター構成の見直しで低消費電力を実現。
高い温度分布性能
簡単操作

製品仕様

項目 仕様
型式 RDT-250Ⅱ
対象基板

250W×330Lmm以下　

高さ:　キャリアバー下限設定時：下5mm上28mm　上限設定時：下31mm上2mm　※基板底面からの寸法
装置寸法 823W×890D×1414H（本体）、1575（モニター含む）　
加熱方式 上面：熱風・遠赤外線輻射併用
下面：遠赤外線輻射（オプション）
冷却方式 外部ガス（窒素または空気）導入による（排気ダンパ連動）
冷却用流量調整弁付き
電源 3相　200V　50/60Hz　23.4kW/線電流：約68A
外部ガス 0.3～0.5MPaドライエア又は窒素ガス
　炉内100㍑/min（MAX）、冷却室200㍑/min（MAX）
炉内酸素濃度 （窒素使用時） 最低100ppm
基板トレイ ネット式またはキャリア式（いづれか選択）
上面加熱 熱風・遠赤外線ヒータ：約15kW(500W×30ブロック)
※基準モジュールに対する偏差設定可能
下面加熱 遠赤外線ヒータ ：約2.4kW（400W×6）
温風加熱 約6kW（2kW×2、1kW×2）
温度精度 常温～80℃：±3℃ 80℃～330℃：±2℃ 300℃～400℃：±3℃
均熱エリア 中央部　200Ｗ×200Ｄ
測定温度 常温～400℃
測定点数 手動モード測定時7ポイント
　　自動モード測定時CNT＋6ポイント）
窒素供給機能 流量調整弁：100ℓ／min
制御用専用ソフト RDT-250ⅡS（内臓PCにインストール済）
（外部のPCでプロファイル作成・データ解析可）
対応OS：Windows10、Windows11
装置重量

約200kg
  • オプション：酸素濃度計
  • オプション：ガス混合器
  • ※ 掲載の仕様は、改良のため予告なしに変更することがありますのであらかじめご了承ください。

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