セル生産用リフロー装置(RDT-165CP)販売終了

コストパフォーマンスに優れた低消費電力のセル生産用リフロー装置です。
省スペースながら高い加熱性能を。

高い温度分布性能
165 x 200mm基板対応

特長

  • ●10パターンのプロファイル設定がメモリできます。(専用ソフトを用いてUSBにて転送)
  • ●最大10ステージの加熱設定ができるので、多彩な温度プロファイルを最適に実現できます。
  • ●複数台を設置してもインテリジェント機能にて同時本加熱を防ぎ、工場配線電力を抑えます。
  • ●コンパクトなサイズで低価格、作業スペースを効率よく設計できます。
  • ●熟練者でなくても必要に応じて時間をかけずに段取り変えをスムーズに行えます。

製品仕様

項目 仕様
型式 RDT-165CP-A RDT-165CP-N
対象基板寸法 大きさ 200W×165L mm以下 高さ 保持面上20mm、下１５ｍｍ以下
装置寸法 460(W)×735(D)×1067(H)(mm) (本体) 1327(H)(mm)
(シグナルタワー)
加熱方式 上面：熱風・遠赤外線輻射併用
下面：遠赤外線輻射
冷却方式 プロペラファン(下面)による
電源 3相 200V 50/60Hz 7kVA
外部ガス エア供給 0.3 - 0.5MPa 100 ℓ/min (MAX)(流量調整バルブ内蔵)
窒素供給 0.4 - 0.6MPa 100 ℓ/min (MAX)(流量調整バルブ内蔵)
基板トレイ ネット式または、キャリア式（いづれか選択）
上面加熱 熱風・遠赤外線ヒータ：4.8kW (約400W×12ブロック)
※基準モジュールに対する偏差設定可能
下面加熱 遠赤外線ヒータ ：約1kW（500W×2）
加熱温度 常温～330℃
制御用専用ソフト (添付品) RDT-165CS 対応OS : Windows XP/2000
装置質量 約85kg
  • ※ 掲載の仕様は、改良のため予告なしに変更することがありますのであらかじめご了承ください。

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